等離子去膠機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。
去膠工藝是微加工實(shí)驗(yàn)中一個(gè)非常重要的過程。在電子束曝光、紫外曝光等微納米加工工藝之后，都需要對(duì)光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠去除的是否干凈*、對(duì)樣片是否有損傷等問題將直接影響到后續(xù)工藝的順利完成。德國(guó)ALPHA PLAMSA擁有多年的去膠經(jīng)驗(yàn)，致力于給您提供專業(yè)的微波等離子體去膠機(jī)系統(tǒng)，并提供專業(yè)的技術(shù)支持服務(wù)。
等離子去膠機(jī)操作規(guī)程：
1、自動(dòng)切割小車應(yīng)經(jīng)空車運(yùn)轉(zhuǎn)，并選定切割速度；
2、使用釷、鎢電極應(yīng)符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；
3、高頻發(fā)生器應(yīng)設(shè)有屏蔽護(hù)罩，用高頻引弧后，應(yīng)立即切斷高頻電路；
4、應(yīng)檢查并確認(rèn)電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；
5、操作人員應(yīng)站在上風(fēng)處操作。可從工作臺(tái)下部抽風(fēng)，并宜縮小操作臺(tái)上的敞開面積；
6、小車、工件應(yīng)放在適當(dāng)位置，并應(yīng)使工件和切割電路正極接通，切割工作面下應(yīng)設(shè)有溶渣坑；
7、等離子去膠機(jī)應(yīng)根據(jù)工件材質(zhì)、種類和厚度選定噴嘴孔徑，調(diào)整切割電源、氣體流量和電極的內(nèi)縮量；
8、當(dāng)空載電壓過高時(shí)，應(yīng)檢查電器接地、接零和割炬手把絕緣情況，應(yīng)將工作臺(tái)與地面絕緣，或在電氣控制系統(tǒng)安裝空載斷路斷電器；
9、微波等離子去膠機(jī)操作人員必須戴好防護(hù)面罩、電焊手套、帽子、濾膜防塵口罩和隔音耳罩。不戴防護(hù)鏡的人員嚴(yán)禁直接觀察等離子弧，裸露的皮膚嚴(yán)禁接近等離子弧。
等離子去膠機(jī)操作及配合人員防護(hù)：
1、作業(yè)后，應(yīng)切斷電源，關(guān)閉氣源和水源；
2、高空切割時(shí)，必須系好安全帶，切接切割周圍和下方應(yīng)采取防火措施，并應(yīng)有專人監(jiān)護(hù)；
3、現(xiàn)場(chǎng)使用的等離子切割機(jī)機(jī)，應(yīng)設(shè)有防雨、防潮、防曬的機(jī)棚，并應(yīng)裝設(shè)相應(yīng)的消防器材；
4、雨天不得在露天焊割。在潮濕地帶作業(yè)時(shí)，操作人員應(yīng)站在鋪有絕緣物品的地方，并應(yīng)穿絕緣鞋；
5、對(duì)承壓狀態(tài)的壓力容器及管道、帶電設(shè)備、承載結(jié)構(gòu)的受力部位和裝有易燃、易爆物品的容器嚴(yán)禁進(jìn)行切割；
產(chǎn)品分類
更新時(shí)間：2019-06-24 
瀏覽次數(shù)：2786
掃碼
您的位置：
在線咨詢
返回頂部