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技術(shù)文章/ article
ICP刻蝕機(jī)是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝，包括刻蝕III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介質(zhì)材料、玻璃、石英、金屬，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。ICP刻蝕機(jī)主要特點(diǎn)：基于PC控制的立柜式百級ICP-RIE刻蝕系統(tǒng)，擁有快速的刻蝕能力；配套LabView軟件，菜單驅(qū)動，自動記錄數(shù)據(jù)；觸摸屏監(jiān)控；全自動系統(tǒng)，帶安全聯(lián)...
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到z大可達(dá)6”直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無...
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是納米制造領(lǐng)域的一項(xiàng)著名技術(shù)，在大規(guī)模集成電路、絕緣材料、磁性材料、光電子材料領(lǐng)域有著*的重要地位。通過利用氣相間的反應(yīng)，它能將蒸發(fā)的反應(yīng)物沉積在表面形成薄膜，比如說石墨烯就是CVD廣為認(rèn)知的產(chǎn)物，但目前看來，制備薄膜半導(dǎo)體材料也是它受重視的應(yīng)用之一。金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的原理：CVD的研究始于十九世紀(jì)末，主要用于重要材料的合成和制備。若想知道CVD是如何制造特定薄膜的，那就得先了解它的原理。CVD屬于“自下而上”的納米制造技術(shù)，其原理是把含有構(gòu)成...
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)是在一個腔體中實(shí)現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進(jìn)行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計也可以支持其中任一個腔體的單獨(dú)使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定...
空間環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計算機(jī)控制、安全連鎖，以及多級密碼授權(quán)訪問保護(hù)的功能。它可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環(huán)情況下測試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統(tǒng)z通常的應(yīng)用之一是太空模擬?？臻g環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度...
熱真空試驗(yàn)箱是專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計的，工作時可使工作室內(nèi)保持一定的真空度，并能夠向內(nèi)部充入惰性氣體，特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進(jìn)行快速干燥，采用智能型數(shù)字溫度調(diào)節(jié)儀進(jìn)行溫度的設(shè)定、顯示與控制。熱真空試驗(yàn)箱外殼由鋼板沖壓折制、焊接成型，外殼表面采用高強(qiáng)度的靜電噴塑涂裝處理，漆膜光滑牢固。工作室采用碳鋼板或不銹鋼板折制焊接而成，工作室與外殼之間填充保溫棉。工作室的內(nèi)部放有試品擱板，用來放置各種試驗(yàn)物品，工作室外壁的四周裝有云母加熱器。門封條采用硅橡膠條密封，...
進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護(hù)、光路的檢修與維護(hù)、設(shè)備的清洗與保養(yǎng)。1.定期更換擴(kuò)散泵油擴(kuò)散泵油使用一段時...
我們的優(yōu)勢｜離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強(qiáng)的適應(yīng)性，可以根據(jù)不同的應(yīng)用建立不同的結(jié)構(gòu)，不同的樣品臺和離子源配置可實(shí)現(xiàn)不同的應(yīng)用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺可實(shí)現(xiàn)正負(fù)90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術(shù)可控制基片溫度在50℃以內(nèi)。通過傾斜和旋轉(zhuǎn)，深溝可切成斜角，通過控制側(cè)壁輪廓和徑向可提高均勻性，不同的構(gòu)造不同的應(yīng)用可選擇不同的選配項(xiàng)，也可增加濺射實(shí)現(xiàn)刻蝕之后的涂覆保護(hù)。應(yīng)用十分廣泛。NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業(yè)中非常有競爭力，它憑什么可...
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